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半自動奈米壓印機
功能：
奈米壓印技術基本上是先行製作奈米圖案於可透UV光之子模上，隨即將高分子材料均勻塗佈於基板上；在利用先前製作之具有奈米圖案之子模以適當的力量施壓於所使用之基板上，將圖案轉印到高分子材料上的方法；並施以紫外光（ultraviolet, UV）照射，使高分子材料產生聚合反應而固化。如此即可將奈米圖案轉移至欲圖案化之基板上。奈米壓印機是大面積轉印機經過產業驗證良率可達95%以上的機型。
規格：
上基座模組：
▼高壓增壓管路均勻分布出氣，施加正壓達MAX 15 bar。
▼腔體抽真空達150 mTorr。
下基座模組：
▼有真空吸盤之載台(載盤分2吋5片、4吋1片及6吋1片)。
▼載台及模仁框自動傳輸。
加熱模組：
▼加熱速率50℃/min，溫度範圍為室溫~150℃(控溫精度：±2°C。
水冷模組：
▼冰水機。
▼降溫速率30℃/min。
紫外光系統：
▼UV LED 燈座模組。
▼配合設計水冷循環系統。
自動奈米壓印機
功能：
結合多組半自動奈米壓印機模組，配合自動手臂傳輸系統。
規格：
壓印機：同半自動奈米壓印機
精密對位自動壓印系統
功能：
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規格：
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